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溅射靶材ito靶材的生产工艺 ito靶材的生产工艺可以分为3种:热等静压法(hip)、溅射靶材热压法(hp)和气氛烧结法。各种生产工艺及其特点简介如下:
热等静压法:ito靶材的热等静压制作过程是将粉末或预先成形的胚体,在800℃~1400℃及1000kgf/cm 2~2000kgf/cm 2的压力下等方加压烧结。热等静压工艺制造产品密度高、物理机械性能好,但设备投入高,生产成本高,产品的缺氧率高。







平面显示器(fpd)这些年来大幅冲击以阴极射线管(crt)为主的电脑显示器及电视机市场,亦将带动ito靶材的技术与市场需求。如今的ito靶材有两种.一种是采用纳米状态的氧化铟混合后烧结,一种是采用铟锡合金靶材。铟锡台金靶材可以采用直流反应溅射制造ito薄膜,但是靶表面会氧化而影响溅射率,并且不易得到大尺寸的台金靶材。如今一般采取方法生产ito靶材,利用l}irf反应溅射镀膜.它具有沉积速度快.且能控制膜厚,电导率高,薄膜的一致性好,---复合材料,与基板的附着力强等优点。

的工业,由于长期处于计划经济体制内,发展比较缓慢,对于金银而言,可以说是历史悠久,源远流长了,---复合材料加工技术,但在改革开放前,没有纳入计划渠道的,直至2002年10月30日上海黄金正式开业,才宣告了计划经济时金银管理条例的失效,而铂族金属工业更是起步晚、技术落后,---复合材料价格,直到改革开放以后,才有了突飞猛进的发展,湖北---复合材料,但与国际上的相比较,依然是落在人家后面,因此在无论是的投资储备需求,还是实际的应用需求。

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