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而未米的0.18um}艺甚至0.13m工艺,纯金靶材,所需要的靶材纯度将要求达到5甚至6n以上。铜与铝相比较,河南纯金靶材,铜具有更高的抗电迁移能力及---的电阻率,能够满足!导体工艺在0.25um以下的亚微米布线的需要但却带米了其他的问题:铜与有机介质材料的附着强度低.并且容易发生反应,纯金靶材工艺,导致在使用过程中芯片的铜互连线被腐蚀而断路。

为了解决以上这些问题,需要在铜与介质层之间设置阻挡层。阻挡层材料一般采用高熔点、高电阻率的金属及其化合物,因此要求阻挡层厚度小于50nm,与铜及介质材料的附着性能---。铜互连和铝互连的阻挡层材料是不同的.需要研制新的靶材材料。铜互连的阻挡层用靶材包括ta、w、tasi、wsi等.但是ta、w都是难熔金属.制作相对困难,如今正在研究钼、铬等的台金作为替代材料。






钨-钛靶材作为光伏电池镀膜材料是近发展起来的,纯金靶材生产加工,它作为第三代太阳能电池的阻挡层是---择。
由于 w-ti 系列薄膜具有非常优良的性能,近几年来应用量急剧增加,2008年w-ti 靶材用量已达到400t,随着光伏产业的发展,这种靶材的需求量会越来越大。具行业预测其用量还会有很大的增加。国际太阳能电池市场以的速度增长,目---界有30 多公司参与太阳能市场的进一步开发, 并已有的公司产品投入市场。

溅射靶材的要求较传统材料行业高,一般要求如,尺寸、平整度、纯度、各项杂质含量、密度、n/o/c/s、晶粒尺寸与缺陷控制;较高要求或特殊要求包含:表面粗糙度、电阻值、晶粒尺寸均匀性、成份与组织均匀性、异物(氧化物)含量与尺寸、导磁率、密度与超细晶粒等等。磁控溅射镀膜是一种新型的物相镀膜方式,就是用电子系统把电子发射并---在被镀的材料上,使其被溅射出来的原子遵循动量转换原理以较高的动能脱离材料飞向基片淀积成膜。这种被镀的材料就叫溅射靶材。 溅射靶材有金属,合金,陶瓷化合物等。

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