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各种类型的溅射薄膜材料在半导体集成电路(vlsi)、光碟、平面显示器以及工件的表面涂层等方面都得到了广泛的应用。20世纪90年代以来,溅射靶材及溅射技术的同步发展,哪里有金铜靶材,---地满足了各种新型电子元器件发展的需求。例如,在半导体集成电路制造过程中,以电阻率较低的铜导体薄膜代替铝膜布线。
在被溅射的靶极(阴极)与阳极之间加一个正交磁场和电场,在高真空室中充入所需要的惰性气体(通常为ar气),磁铁在靶材料表面形成250~350高斯的磁场,同高压电场组成正交电磁场。







在铂族金属的应用中,光学玻璃行业是铂的重要的应用领域,铂是制造熔制光学玻璃的坩埚和搅拌器的---材料,金铜靶材厂,由于光学玻璃的特殊性,提出了对坩埚和搅拌器的更苛刻的适用要求,早在八十年代初期,国内就有人提出了用弥散强化铂来制作坩埚和搅拌器。

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