营口金蒸发镀靶材-沈阳东创经验丰富-金蒸发镀靶材技术

溅射靶材的要求较传统材料行业高，一般要求如，金蒸发镀靶材工艺，尺寸、平整度、纯度、各项杂质含量、密度、n/o/c/s、晶粒尺寸与缺陷控制；较高要求或特殊要求包含：表面粗糙度、电阻值、晶粒尺寸均匀性、成份与组织均匀性、异物（氧化物）含量与尺寸、导磁率、密度与超细晶粒等等。磁控溅射镀膜是一种新型的物相镀膜方式，就是用电子系统把电子发射并---在被镀的材料上，金蒸发镀靶材技术，使其被溅射出来的原子遵循动量转换原理以较高的动能脱离材料飞向基片淀积成膜。这种被镀的材料就叫溅射靶材。 溅射靶材有金属，金蒸发镀靶材厂家，合金，陶瓷化合物等。

什么是靶材绑定？靶材绑定的适用范围、流程？

 绑定是指用焊料将靶材与背靶焊接起来。主要有三种的方式：压接、钎焊和导电胶。

 1.压接：采用压条，一般为了提高接触的---性，会增加石墨纸、pb或in皮；

 2.钎焊：一般使用软钎料的情况下，要求溅射功率小于20w/cm2，钎料常用in、sn、in-sn；我司采用铟焊绑定技术。

 3.导电胶：采用的导电胶要耐高温，厚度在0.02-0.05um。