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溅射靶材ito靶材的生产工艺 ito靶材的生产工艺可以分为3种:热等静压法(hip)、溅射靶材热压法(hp)和气氛烧结法。各种生产工艺及其特点简介如下:
热等静压法:ito靶材的热等静压制作过程是将粉末或预先成形的胚体,在800℃~1400℃及1000kgf/cm 2~2000kgf/cm 2的压力下等方加压烧结。热等静压工艺制造产品密度高、物理机械性能好,但设备投入高,生产成本高,产品的缺氧率高。







平面显示器(fpd)这些年来大幅冲击以阴极射线管(crt)为主的电脑显示器及电视机市场,香槟金靶材报价,亦将带动ito靶材的技术与市场需求。如今的ito靶材有两种.一种是采用纳米状态的氧化铟混合后烧结,一种是采用铟锡合金靶材。铟锡台金靶材可以采用直流反应溅射制造ito薄膜,但是靶表面会氧化而影响溅射率,并且不易得到大尺寸的台金靶材。如今一般采取方法生产ito靶材,利用l}irf反应溅射镀膜.它具有沉积速度快.且能控制膜厚,香槟金靶材价格,电导率高,薄膜的一致性好,香槟金靶材加工,与基板的附着力强等优点。

根据电解质的种类可分为氯化物熔盐体系和---物-氧化物熔盐体系电解法,多用于制取以---为主的混合稀土金属以及---、镨、钕等单一稀土金属。熔盐电解法为连续性生产过程,产量较大,设备简单,黑龙江香槟金靶材,成本较低,但电解槽需用耐高温氯化物或---物腐蚀的结构材料制造。
还原制得含稀土99%的稀土金属经真空精炼(包括真空蒸馏或升华)、电传输、区域熔炼、熔盐电解精炼等方法处理除去非稀土杂质后,可获得纯度超过99.9%的稀土金属产品。

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