沈阳东创贵金属材料有限公司提供金粒报价-东创----营口金粒。
各种类型的溅射薄膜材料在半导体集成电路(vlsi)、光碟、平面显示器以及工件的表面涂层等方面都得到了广泛的应用。20世纪90年代以来,溅射靶材及溅射技术的同步发展,---地满足了各种新型电子元器件发展的需求。例如,金粒工艺,在半导体集成电路制造过程中,以电阻率较低的铜导体薄膜代替铝膜布线。
在被溅射的靶极(阴极)与阳极之间加一个正交磁场和电场,营口金粒,在高真空室中充入所需要的惰性气体(通常为ar气),磁铁在靶材料表面形成250~350高斯的磁场,同高压电场组成正交电磁场。







背靶材料:
无氧铜(ofc)– 目前常使用的作背靶的材料是无氧铜,因为无氧铜具有---的导电性和导热性,而且比较容易机械加工。 如果保养适当,无氧铜背靶可以重复使用10次甚至更多。
钼(mo)– 在某些使用条件比较特殊的情况下,如需要进行高温帖合的条件下,无氧化铜容易被氧化和发生翘曲,金粒回收, 所以会使用金属钼为背靶材料或某些靶材如陶瓷甚至某些金属靶材的热膨胀系数无法与无氧铜匹配,同样也需要使用金属钼作为背靶材料。

钨-钛(w-ti)膜以及以钨-钛(w-ti)为基的合金膜是高温合金膜,金粒报价,具有一系列的优良性能。钨具有高熔点、高强度和低的热膨胀系数等性能,w/ ti 合金具有低的电阻系数、---的热稳定性能。如各种器件都需要起到导电作用的金属布线,例如al 、cu 和ag 等已经被广泛的应用和研究。但是布线金属本身易 氧化、易与周围的环境发生反应,与介质层的粘结性差,易扩散进入si 与sio2 等器件的衬底材料中,并且在较低的温度下会形成金属与si 的化合物, 充当了杂质的角色,使器件的性能大幅度下降。

金粒报价-东创---(在线咨询)-营口金粒由沈阳东创---材料有限公司提供。沈阳东创---材料有限公司位于沈阳市沈河区文化东路89号。在市场经济的浪潮中拼博和发展,目前东创---在冶炼加工中享有---的声誉。东创---取得---商盟,标志着我们的服务和管理水平达到了一个新的高度。东创---全体员工愿与各界有识之士共同发展,共创美好未来。

联系我们时请一定说明是在100招商网上看到的此信息,谢谢!
本文链接:https://tztz211829.zhaoshang100.com/zhaoshang/276749453.html
关键词: