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陶瓷靶材
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而未米的0.18um}艺甚至0.13m工艺,所需要的靶材纯度将要求达到5甚至6n以上。铜与铝相比较,铜具有更高的抗电迁移能力及---的电阻率,能够满足!导体工艺在0.25um以下的亚微米布线的需要但却带米了其他的问题:铜与有机介质材料的附着强度低.并且容易发生反应,导致在使用过程中芯片的铜互连线被腐蚀而断路。
为了解决以上这些问题,需要在铜与介质层之间设置阻挡层。阻挡层材料一般采用高熔点、高电阻率的金属及其化合物,因此要求阻挡层厚度小于50nm,香槟金靶材技术,与铜及介质材料的附着性能---。铜互连和铝互连的阻挡层材料是不同的.需要研制新的靶材材料。铜互连的阻挡层用靶材包括ta、w、tasi、wsi等.但是ta、w都是难熔金属.制作相对困难,如今正在研究钼、铬等的台金作为替代材料。
以含有氯原子的表橡胶为代表的橡胶组分,用于导电橡胶辊,以允许导电橡胶辊呈离子导电性。该情况下,含有氯原子的橡胶组分具有较高的表面自由能。因此,含有氯原子的橡胶组分容易粘附于---和用于---的添加剂上。当含有氯原子的橡胶组分与离子导电的单体聚合时,导电辊具有较高的表面自由能并且容易弄湿。因此粘附于导电橡胶辊的---量变得较高。当通过用紫外线照射其表面或者使其暴露于臭氧中,使导电橡胶辊的表面上形成氧化膜时,导电橡胶辊表面的氧浓度变得较高。
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