纯银导电辊加工-纯银导电辊-沈阳东创为本

纯度是靶材的主要性能指标之一，因为靶材的纯度对薄膜的性能影响很大。不过在实际应用中，对靶材的纯度要求也不尽相同。例如，纯银导电辊报价，随着微电子行业的迅速发展，硅片尺寸由6”， 8“发展到12”，纯银导电辊， 而布线宽度由0.5um减小到0.25um，0.18um甚至0.13um，以前99.995%的靶材纯度可以满足0.35umic的工艺要求，而制备0.18um线条对靶材纯度则要求99.999%甚至99.9999%。

杂质含量：靶材固体中的杂质和气孔中的氧气和水气是沉积薄膜的主要污染源。不同用途的靶材对不同杂质含量的要求也不同。半导体工业用的纯铝及铝合金靶材，对碱金属含量和性元素含量都有特殊要求。

添加pt的初衷是用作扩散障以阻止或推迟al从涂层向基体的互扩散。但pt在铂铝涂层中没有发挥扩散障的作用，涂层在服役期间与基体发生明显的互扩散反应，并致使难熔元素析出为tcp相。因此，pt不能作为铝化物涂层的扩散障，转而作为al的扩散媒介。从事发动机叶片制造及其高温防护涂层研发与应用的科研院所、高校和企事业等单位缺乏铂改性铝化物涂层的制备与性能研究的知识储备和技术，铂铝改性涂层研究在国内未受到足够的重视。