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国内某公司产出的铜阳极泥高镍阳极泥镍含量---45%左右，镍主要以nio、nio2、(ni、fe)3o4的形态存在。可供该公司选择并且在工业上成功应用的工艺流程仅有两种：一种是利用---化焙烧蒸硒，酸浸脱铜和镍；另一种是利用加压浸出脱除镍铜，然后利用---化焙烧蒸硒。这两种方法都需要---化焙烧，处理过程中设备腐蚀---而且会有so2溢出，工作环境条件差。

磁控溅射原理：电子在电场的作用下加速飞向基片的过程中与原子发生碰撞，电离出大量的离子和电子，电子飞向基片。离子在电场的作用下加速轰击靶材，溅射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子(或分子)沉积在基片上成膜。二次电子在加速飞向基片的过程中受到磁场洛仑磁力的影响，纯银导电辊价格，被束缚在靠近靶面的等离子体区域内，该区域内等离子体密度---，二次电子在磁场的作用下围绕靶面作圆周运动，有纯银导电辊，该电子的运动路径很长，在运动过程中不断的与原子发生碰撞电离出大量的离子轰击靶材，经过多次碰撞后电子的能量逐渐降低，摆脱磁力线的束缚，远离靶材，终沉积在基片上。