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磁控溅射靶材种类:金属溅射镀膜靶材,合金溅射镀膜靶材,陶瓷溅射镀膜靶材,金银泥处理车间设备,硼化物陶瓷溅射靶材,碳化物陶瓷溅射靶材,---物陶瓷溅射靶材,氮化物陶瓷溅射靶材,氧化物陶瓷靶材,硒化物陶瓷溅射靶材,硅化物陶瓷溅射靶材,---物陶瓷溅射靶材,碲化物陶瓷溅射靶材,其他陶瓷靶材,掺铬一氧化硅陶瓷靶材(cr-sio),磷化铟靶材(inp),铅靶材(pbas),铟靶材(inas)。







以含有氯原子的表橡胶为代表的橡胶组分,用于导电橡胶辊,辽阳金银泥处理车间设备,以允许导电橡胶辊呈离子导电性。该情况下,含有氯原子的橡胶组分具有较高的表面自由能。因此,含有氯原子的橡胶组分容易粘附于---和用于---的添加剂上。当含有氯原子的橡胶组分与离子导电的单体聚合时,导电辊具有较高的表面自由能并且容易弄湿。因此粘附于导电橡胶辊的---量变得较高。当通过用紫外线照射其表面或者使其暴露于臭氧中,使导电橡胶辊的表面上形成氧化膜时,导电橡胶辊表面的氧浓度变得较高。

背靶材料:
无氧铜(ofc)– 目前常使用的作背靶的材料是无氧铜,因为无氧铜具有---的导电性和导热性,金银泥处理车间设备加工,而且比较容易机械加工。 如果保养适当,无氧铜背靶可以重复使用10次甚至更多。
钼(mo)– 在某些使用条件比较特殊的情况下,如需要进行高温帖合的条件下,金银泥处理车间设备价格,无氧化铜容易被氧化和发生翘曲, 所以会使用金属钼为背靶材料或某些靶材如陶瓷甚至某些金属靶材的热膨胀系数无法与无氧铜匹配,同样也需要使用金属钼作为背靶材料。

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