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金属靶材材质分为:
镍靶、ni、钛靶、ti、锌靶、zn、铬靶、cr、镁靶、mg、铌靶、nb、锡靶、sn、铝靶、al、铟靶、in、铁靶、fe、锆铝靶、zral、钛铝靶、tial、锆靶、zr、铝硅靶、alsi、硅靶、si、铜靶cu、钽靶t、a、锗靶、ge、银靶、ag、钴靶、co、金靶、au、钆靶、gd、---靶、la、钇靶、y、钨靶、w、不锈钢靶、镍铬靶、nicr、铪靶、hf、钼靶、mo、铁镍靶、feni、钨靶、w等。







在所有应用产业中,半导体产业对靶材溅射薄膜的品质要求是苛刻的。如今12英寸(300衄口)的硅晶片已制造出来.而互连线的宽度却在减小。硅片制造商对靶材的要求是大尺寸、高纯度、低偏析和细晶粒,这就要求所制造的靶材具有---的微观结构。靶材的结晶粒子直径和均匀性已被认为是影响薄膜沉积率的关键因素。另外,薄膜的纯度与靶材的纯度关系---,过99.995%(4n5)纯度的铜靶,或许能够满足半导体厂商0.35pm工艺的需求,但是却无法满足如今0.25um的工艺要求。

的---工业由于较长时期处于计划经济体制,因此发展比较缓慢,---是铂族金属起步更是比较晚,工艺技术比较落后,国内资源更是匮乏,铂粒,直到改革开放以后,以上海黄金的开业为标志,铂粒加工,在这三十年里,铂粒销售,才得到了迅速的发展,出现了现货、纸黄金、纸白银等等的交易模式,为---开打了通往---的大门,更多的开辟了就业渠道,同时铂族金属的生产加工企业和流通领域的企业也似雨后春笋,蓬勃发展,使成为很大的的铂族金属进口和消费国。

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