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热压法：ito靶材的热压制作过程是在石墨或氧化铝制的模具内充填入适当粉末以后，以 100kgf/cm 2～1000kgf/cm 2的压力单轴向加压，同时以1000℃～1600℃进行烧结。热压工艺制作过程所需的成型压力较小，烧结温度较低，烧结时间较短。但热压法生产的ito靶材由于缺氧率高，氧含量分布不均匀，金铜靶材价格，从而影响了生产ito薄膜的均匀性，且不能生产大尺寸的靶。
超纯金属，指的化学杂质和物理杂质 (晶体缺陷) 含量的金属。目前主要以化学杂质的含量为标准，常以杂质在金属中总含 量的百万分之几表示 。超纯金属是相对高纯度的金属，一般指金属纯度达到纯度9以上的金属，物理杂质的概念才是有意义的。
材料的纯度对其性能，---是微电子学、光电子学性能影响很大，现代高技术产业要求制备出超纯金属以利于制作器件。
烧结法： ito靶材烧结制作法是在以铟锡氧化物共沉淀粉末或氧化铟和氧锡混合粉末为原料，加入粘结剂和分散剂混合后，压力成型，脱脂，金铜靶材，然后于1400℃---1600℃烧结。烧结法设备投入少，池州金铜靶材，成本低，产品密度高、缺氧率低，尺寸大、但制造过程中对粉末的选择性很强。
ito靶制备的透明导电薄膜广泛应用于数码相机、投影电视、数码显示的各种光学系统中，全球需求量都很大。
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